射频CCP和ICP薄膜沉积装置DHDP&DHIP
一、产品概述
设备主要由薄膜沉积室、真空抽气系统、气源进气调节系统、衬底加热温度控制系统等部分组成。
二、主要实验
1、硅材料在薄膜太阳能电池上的应用；
2、硅系纳米复合薄膜材料 PCVD 法制备；
3、等离子体化学气相沉积制备各种功能薄膜。
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射频CCP和ICP薄膜沉积装置DHDP&DHIP
一、产品概述
设备主要由薄膜沉积室、真空抽气系统、气源进气调节系统、衬底加热温度控制系统等部分组成。
二、主要实验
1、硅材料在薄膜太阳能电池上的应用；
2、硅系纳米复合薄膜材料 PCVD 法制备；
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